| 标题 |
 Self-formation of SiGe oxide, Ge, and void multilayers via thermal oxidation of hydrogenated epitaxial SiGe films 氢化外延SiGe薄膜热氧化自形成SiGe氧化物、Ge和空隙多层
相关领域
材料科学
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期刊：Vacuum 作者：Junyang An; Ruiling Gong; Xinyu Li; Ileana Florea; Lise Watrin; et al 出版日期：2023-04-06 |
| 求助人 |
孟孟孟
在
2025-08-28 21:33:35 发布，悬赏 10 积分
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