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Optimization of polishing path and material removal for uniform material removal in optical surface polishing
光学表面抛光中均匀材料去除的抛光路径和材料去除的优化
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网址
https://doi.org/10.1007/s00170-022-10464-0
DOI
10.1007/s00170-022-10464-0 doi
其它 期刊：The International Journal of Advanced Manufacturing Technology
作者：Xingtian Qu; Qinglong Liu; Hongyi Wang; Haizhong Liu; Jiming Liu; et al
出版日期：2022-12-03
求助人
aaaaa 在 2025-11-30 12:38:32 发布自北京，悬赏 10 积分
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