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 Unveiling Cryogenic Performance (4 to 300 K) Towards Ultra-Thin Ferroelectric HZO: Novel Kinetic Barrier Engineering and Underlying Mechanism 揭示超薄铁电HZO的低温性能（4至300 K）：新的动力学势垒工程和潜在机制
相关领域
铁电性
机制（生物学）
动能
光电子学
材料科学
薄膜
凝聚态物理
纳米技术
物理
电介质
量子力学
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期刊： 作者：Dong Zhang; Yang Feng; Zijie Zheng; Chen Sun; Qiwen Kong; et al 出版日期：2024-06-16 |
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