Synergistic impact of Al2O3 capping layer and deposition temperature for enhancing the ferroelectricity of undoped-HfO2 thin films

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标题	Synergistic impact of Al2O3 capping layer and deposition temperature for enhancing the ferroelectricity of undoped-HfO2 thin films
网址	https://doi.org/10.1016/j.cap.2024.11.016
DOI	10.1016/j.cap.2024.11.016 doi
其它	期刊：Current Applied Physics 作者：Sang Han Ko; Seung Eon Moon; Sung‐Min Yoon 出版日期：2024-11-28
求助人	苏西在 2026-09-21 10:56:16 发布自山东，悬赏 10 积分
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