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 Key Sputtering Parameters for Precursor In2O3 Films to Achieve High Carrier Mobility 相关领域
材料科学
溅射
钥匙（锁）
光电子学
纳米技术
工程物理
薄膜
计算机科学
计算机安全
工程类
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期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Junichi Nomoto; Takashi Koida; Iwao Yamaguchi; Tomohiko Nakajima 出版日期：2024-10-30 |
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