Polishing performance and Co–catalytic Fenton mechanism of a novel Fe3O4/MoS2 slurry for silicon carbide wafer chemical mechanical polishing

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标题	Polishing performance and Co–catalytic Fenton mechanism of a novel Fe3O4/MoS2 slurry for silicon carbide wafer chemical mechanical polishing
网址	http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2026.167061
DOI	10.1016/j.apsusc.2026.167061 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Wangyang Li; Gong Lv; Chenyu Wang; Kaiyue Wang 出版日期：2026-09-01
求助人	王雪在 2026-07-09 10:39:34 发布自浙江，悬赏 10 积分
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