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专利、报告等 Trichlorosilane for silicon epitaxy—Determination of boron, aluminium, phosphorus, vanadium, chrome, manganese, iron, cobalt, nickel, copper, arsenic, molybdenum and antimony content—Inductively coupled plasma mass spectrometric method
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| 其它 | Standardization Administration of China. GB/T 29056-2012 |
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