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标题
Extremely low sheet resistance of ultra-thin AlN barrier HEMTs by plasma-assisted molecular beam epitaxy
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DOI
10.1088/1674-4926/25110027 doi
其它 期刊:Journal of Semiconductors
作者:Li Liu; Hanxiang Jia; Jiajie Pan; Hao Ying; Yi-Yuan Sun; et al
出版日期:2026-05-01
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科研麻瓜 在 2026-10-29 11:48:35 发布自湖北,悬赏 10 积分
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