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An optimized data prep flow for curvilinear masks |
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10.1117/12.2640638
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期刊:Photomask Japan 2022: XXVIII Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology 作者:John Valadez; Yu-Po Tang; Mikhayil Mkrtchyan 出版日期:2022-09-16 |
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(2025-6-4)