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A Novel Method to Improve CMP Selectivity by Ultra-High-Dose Ion Implantation |
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期刊:2023 21st International Workshop on Junction Technology (IWJT) 作者:S. Yuan; K. Omori; T. Yamaguchi; T. Ide; S. Muranaka; M. Inoue 出版日期:2023 |
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(2025-6-4)