Plasma enhanced atomic layer deposition and atomic layer etching of gallium oxide using trimethylgallium

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标题	Plasma enhanced atomic layer deposition and atomic layer etching of gallium oxide using trimethylgallium
网址	https://doi.org/10.1116/6.0001871
DOI	10.1116/6.0001871 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A 作者：Kevin A. Hatch; Daniel C. Messina; Robert J. Nemanich 出版日期：2022
求助人	hxd_BIGpaperer 在 2026-05-15 13:09:47 发布自浙江，悬赏 10 积分
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