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标题
Control of 4H-SiC mesa profiles by a lower temperature hydrogen annealing process
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DOI
10.1016/j.apsusc.2025.164295 doi
其它 期刊:Applied Surface Science
作者:Kelly Turner; Gerard Colston; Katarzyna Stokeley; Andrew Newton; Arne B. Renz; et al
出版日期:2026
求助人
顺心的骁 在 2026-03-03 16:50:39 发布自重庆,悬赏 10 积分
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