Depth of focus in high-NA EUV lithography: the role of assist features and their variability budget

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标题	Depth of focus in high-NA EUV lithography: the role of assist features and their variability budget
网址	https://doi.org/10.1117/12.2658394
DOI	10.1117/12.2658394 doi
其它	期刊：Optical and EUV Nanolithography XXXVI 作者：Roel Gronheid; Alessandro Vaglio Pret; Anatoly Burov 出版日期：2023-04-29
求助人	斯文败类虎在 2026-06-02 14:32:11 发布自广东，悬赏 20 积分
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