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Atomic layer etching of SiO2 with self-limiting behavior on the surface modification step using sequential exposure of HF and NH3
HF和NH3连续曝光表面改性步骤中具有自限性行为的SiO2原子层蚀刻
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网址
DOI
10.1116/6.0001517 doi
其它 期刊:Journal of vacuum science & technology
作者:Nobuya Miyoshi; Hiroyuki Kobayashi; Kazunori Shinoda; Masaru Kurihara; Kohei Kawamura; et al
出版日期:2021-12-20
求助人
diar 在 2025-07-02 15:47:58 发布自江苏,悬赏 10 积分
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