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 Solution based prompt inorganic condensation and atomic layer deposition of Al2O3 films: A side-by-side comparison Al2O3薄膜的溶液基快速无机冷凝和原子层沉积：并排比较
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Sean W. Smith; Wei Wang; Douglas A. Keszler; John F. Conley 出版日期：2014-05-07 |
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