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Extraction and identification of resist modeling parameters for EUV lithography 极紫外光刻抗蚀剂建模参数的提取与识别
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期刊:Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者:Carlos Fonseca; Roel Gronheid; Steven Scheer 出版日期:2008-03-14 |
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