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标题
On the Formation of Silicide Films of Metals (Li, Cs, Rb, and Ba) During Ion Implantation in Si and Subsequent Thermal Annealing
在硅中离子注入和随后的热退火过程中金属（Li、Cs、Rb和Ba）硅化物膜的形成
相关领域
离子注入 硅化物 材料科学 硅 离子 退火（玻璃） 电子衍射 分析化学（期刊） 价（化学） 电子 衍射 化学 冶金 光学 有机化学 物理 量子力学 色谱法
网址
https://doi.org/10.1134/s1027451021030319
DOI
10.1134/s1027451021030319 doi
其它 期刊：Journal of Surface Investigation X-ray Synchrotron and Neutron Techniques
作者：А.С. Рысбаев; M. T. Normurodov; J. B. Khujaniyozov; A. A. Rysbaev; D. A. Normurodov
出版日期：2021-05-01
求助人
airplane 在 2025-08-30 15:38:07 发布，悬赏 10 积分
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