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标题
Electroless copper plating using dimethylamine borane as reductant
以二甲胺硼烷为还原剂的化学镀铜
相关领域
二甲胺 三乙醇胺 铜 镀铜 硼烷 无机化学 螯合作用 化学 电镀（地质） 还原剂 电化学 电镀 有机化学 催化作用 分析化学（期刊） 电极 图层（电子） 物理化学 地球物理学 地质学
网址
https://doi.org/10.1016/j.partic.2011.09.009
DOI
10.1016/j.partic.2011.09.009 doi
其它 期刊：Particuology
作者：Yong Liao; Shengtao Zhang; Robert A. W. Dryfe
出版日期：2012-03-09
求助人
NMC 在 2025-08-22 20:28:23 发布自中国，悬赏 10 积分
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