标题 |
Silicon carbide dry etching technique for pressure sensors design
碳化硅干法刻蚀技术在压力传感器设计中的应用
相关领域
材料科学
碳化硅
振膜(声学)
感应耦合等离子体
蚀刻(微加工)
微电子机械系统
燃烧室压力
干法蚀刻
复合材料
压力传感器
等离子体刻蚀
反应离子刻蚀
等离子体
光电子学
分析化学(期刊)
冶金
机械工程
电气工程
物理
工程类
扬声器
色谱法
化学
量子力学
图层(电子)
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Journal of Manufacturing Processes 作者:А. А. Осипов; Gleb A. Iankevich; A. B. Speshilova; Anna A. Karakchieva; Ekaterina V. Endiiarova; et al 出版日期:2022-01-01 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|