CF4 plasma-based atomic layer etching of Al2O3 and surface smoothing effect

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标题	CF4 plasma-based atomic layer etching of Al2O3 and surface smoothing effect
网址	https://pubs.aip.org/avs/jva/article-pdf/doi/10.1116/6.00022...
DOI	10.1116/6.0002210 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A 作者：Chien-Wei Chen; W. Cho; Chan-Yuen Chang; C. Su; N. Chu; et al 出版日期：2023-01-01
求助人	欢hi丢厚在 2026-07-31 14:19:26 发布自福建，悬赏 10 积分
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