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标题
Continuous MOSFET performance increase with device scaling: The role of strain and channel material innovations
网址
http://dx.doi.org/10.1147/rd.504.0363
DOI
10.1147/rd.504.0363 doi
其它 期刊：IBM Journal of Research and Development
作者：D. A. Antoniadis; I. Aberg; C. Ni Chleirigh; O. M. Nayfeh; A. Khakifirooz; et al
出版日期：2006-07-01
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Beira 在 2026-08-18 10:36:00 发布自江苏，悬赏 20 积分
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    Beira Beira Lv7 求助人 发起了本次求助

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