Electrical and structural comparison of (100) and (002) oriented AlN thin films deposited by RF magnetron sputtering - 科研通

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标题	Electrical and structural comparison of (100) and (002) oriented AlN thin films deposited by RF magnetron sputtering 射频磁控溅射沉积（100）和（002）取向AlN薄膜的电学和结构比较相关领域材料科学薄膜电介质溅射沉积氮化铝结晶度氮化物溅射电阻率和电导率腔磁控管铝光电子学复合材料纳米技术图层（电子）电气工程工程类
网址	https://doi.org/10.1007/s10854-022-08186-w
DOI	10.1007/s10854-022-08186-w doi
其它	期刊：Journal of Materials Science Materials in Electronics 作者：Anis Suhaili Bakri; N. Nafarizal; Ahmad Shuhaimi Abu Bakar; Megat Muhammad Ikhsan Megat Hasnan; Nur Amaliyana Raship; et al 出版日期：2022-04-19
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