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Comparison between SiO2 films deposited by atomic layer deposition with SiH2[N(CH3)2]2 and SiH[N(CH3)2]3 precursors
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网址
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2006.04.033
DOI
10.1016/j.tsf.2006.04.033 doi
其它 期刊：Thin Solid Films
作者：Satoshi Kamiyama; Takayoshi Miura; Yasuo Nara
出版日期：2006-06-07
求助人
研友_汪老头 在 2025-11-19 14:14:10 发布自江苏，悬赏 10 积分
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