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Comparison between SiO2 films deposited by atomic layer deposition with SiH2[N(CH3)2]2 and SiH[N(CH3)2]3 precursors

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作者
Satoshi Kamiyama,Takayoshi Miura,Yasuo Nara
出处
期刊：Thin Solid Films [Elsevier BV]
日期：2006-06-07 卷期号：515 (4): 1517-1521 被引量：72
标识
DOI：10.1016/j.tsf.2006.04.033
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