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 Direct comparison of ferroelectric properties in Hf 0.5 Zr 0.5 O 2 between thermal and plasma-enhanced atomic layer deposition 相关领域
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期刊：Nanotechnology 作者：Jae Hur; Nujhat Tasneem; Gihun Choe; Panni Wang; Zheng Wang; et al 出版日期：2020-07-14 |
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