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标题
Effects of SiO2∕Si3N4 hard masks on etching properties of metal gates
SiO2/Si3N4硬掩模对金属栅极刻蚀性能的影响
相关领域
锡 蚀刻（微加工） 材料科学 金属 表面粗糙度 等离子体刻蚀 表面光洁度 反应离子刻蚀 硅 冶金 纳米技术 复合材料 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1116/1.2382950
AI链接 edu.sgdoi.org
DOI
10.1116/1.2382950 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena
作者：Wan Sik Hwang; Byung-Jin Cho; D.S.H. Chan; Vladimir Bliznetsov; Won Jong Yoo
出版日期：2006-11-01
求助人
jcs666 在 2025-12-01 21:11:56 发布自陕西，悬赏 10 积分
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