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 Effects of SiO2∕Si3N4 hard masks on etching properties of metal gates SiO2/Si3N4硬掩模对金属栅极刻蚀性能的影响
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena 作者：Wan Sik Hwang; Byung-Jin Cho; D.S.H. Chan; Vladimir Bliznetsov; Won Jong Yoo 出版日期：2006-11-01 |
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