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 Effects of substrate temperature on the structure, residual stress and nanohardness of Ti6Al4V films prepared by magnetron sputtering 衬底温度对磁控溅射Ti6Al4V薄膜结构、残余应力和纳米硬度的影响
相关领域
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期刊：Applied Surface Science 作者：Gang Liu; Yanqing Yang; Huang Bin; Xian Luo; Sheng Ouyang; et al 出版日期：2016-02-16 |
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