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 Crystallographic and electrical properties of platinum film grown by chemical vapor deposition using (methylcyclopentadienyl)trimethylplatinum （甲基环戊二烯基）三甲基铂化学气相沉积铂薄膜的晶体学和电学性能
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期刊：Thin Solid Films 作者：Masahiko Hiratani; Toshihide Nabatame; Yūichi Matsui; Shin’ichiro Kimura 出版日期：2002-05-01 |
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