Ultra-low energy radical treatments for advanced 3D device structures

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标题	[高分] Ultra-low energy radical treatments for advanced 3D device structures
网址	https://doi.org/10.1117/12.2659121
DOI	10.1117/12.2659121 doi
其它	期刊：Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XII 作者：Seung Park; Yong Hee Choi; David Lo; Mark Kawaguchi; Christine Das 出版日期：2023-08-01
求助人	若水琉璃默ღ⁶⁶⁶ 在 2026-03-13 15:57:21 发布自湖北，悬赏 100 积分
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