Advances in OPC etch modeling

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标题	Advances in OPC etch modeling
网址	https://doi.org/10.1117/12.2614280
DOI	10.1117/12.2614280 doi
其它	期刊：Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XI 作者：Germain L. Fenger; Youngchang Kim; Ignat Moskalenko; Johnny Herrera; Alexander Drutsa; et al 出版日期：2022
求助人	JTYJTY 在 2026-05-21 21:00:46 发布自浙江，悬赏 20 积分
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