| 标题 |
 Structure and properties of Al2O3 thin films deposited by ALD process 相关领域
材料科学
腐蚀
微观结构
原子层沉积
扫描电子显微镜
基质（水族馆）
薄膜
分层（地质）
氧化铝
铝
复合材料
图层（电子）
氧化物
粘附
冶金
纳米技术
古生物学
地质学
海洋学
生物
构造学
俯冲
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Vacuum 作者：Paulina Boryło; K. Łukaszkowicz; Marek Szindler; Jerzy Kubacki; Katarzyna Balin; et al 出版日期：2016-07-14 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Kao
Copyright
英俊乐珍
叶上初阳
rico
寻雯静
渡人舟
22336
OK
安详乌龟
vivi
叶子666
GO1
大力的冬萱
愉快的真
核桃
Criminology34
vtizsty
sunshine
Lin_Focus
皖公网安备34019202002308
