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标题
PFAS in semiconductor photolithography: a mass balance model
半导体光刻中的PFAS：质量平衡模型
相关领域
光刻 半导体器件制造 计算机科学 生化工程 纳米技术 环境科学 风险分析（工程） 工程类 业务 材料科学 薄脆饼
网址
https://doi.org/10.1117/12.3010996
DOI
10.1117/12.3010996 doi
其它 期刊：
作者：Ralph R. Dammel; David Speed
出版日期：2024-04-09
求助人
Darwin111 在 2025-07-26 13:42:37 发布自广东，悬赏 20 积分
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