| 标题 |
 An Adversarial Active Sampling-Based Data Augmentation Framework for AI-Assisted Lithography Modeling 基于对抗性主动采样的人工智能光刻建模数据增强框架
相关领域
计算机科学
光学接近校正
稳健性（进化）
可制造性设计
人工神经网络
平版印刷术
人工智能
深度学习
利用
计算光刻
机器学习
数据建模
计算机工程
多重图案
工程类
数据库
抵抗
过程（计算）
图层（电子）
生物化学
化学
计算机安全
有机化学
视觉艺术
基因
操作系统
机械工程
艺术
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊： 作者：Mingjie Liu; H. Yang; Brucek Khailany; Haoxing Ren 出版日期：2023-10-28 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
浮游
zcl
Tourist
研究生end
昏睡的蟠桃
Criminology34
小青椒
彭于彦祖
不配.
tuanheqi
GingerF
eric888
嘻嘻哈哈
pcr163
Bio
寒江雪
Zx_1993
LaTeXer
Li
子车茗
不倦
BowieHuang
chenqiumu
小杭76
勤苦的牛马
尉迟希望
凤凰
镓氧锌钇铀
皖公网安备34019202002308
