| 标题 |
 HF-based metal-assisted chemical etching for high-aspect-ratio silicon micro/nanostructures: Mechanisms, parameter mapping, and manufacturing considerations |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Daojiang Yu; Chongteng Zhang; Youkang Shen; Liyi Li 出版日期：2026-01-01 |
| 求助人 | |
| 下载 |
已经有人上传了文献，该状态下其他人无法上传，请等待求助人确认该文件是否是他需要的。
如果求助人在 48 小时内还未确认，系统默认应助成功，本求助将自动关闭。
科研通AI2.0
机器人 未找到该文献，机器人已退出，请等待人工下载
19:03:05 未找到该文献，机器人已退出，请等待人工下载19:03:02 科研通AI机器人（澳大利亚 悉尼）收到请求，开始寻找文献19:03:00 已向机器人发送请求
Quenchingstar
Lv1 求助人 发起了本次求助
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Kao
大力的冬萱
v0id
cdercder
完美巧凡
行走的荷尔蒙
ale
OK
yjh123
丰富语蕊
arniu2008
22336
嘻嘻哈哈
didiwang
Rikki0326
渡人舟
超帅涵柳
sagitar
sanvva
昏睡的蟠桃
皖公网安备34019202002308
