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Inherently area-selective atomic layer deposition for the fabrication of 2D and 3D nanostructures
网址
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2025.165699
DOI
10.1016/j.apsusc.2025.165699 doi
其它 期刊：Applied Surface Science
作者：Yu Gu; Kaipeng Liu; Hanhao Wei; Shuai Mou; Yiyin Zhang; et al
出版日期：2025-12-25
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英吉利25 在 2026-08-21 14:28:30 发布自中国，悬赏 10 积分
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