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3D resist profile evolution in high-NA EUV lithography for random logic vias: simulation and experiment insights 相关领域
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纳米光刻
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| DOI |
10.1117/1.jmm.25.2.021202
doi
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| 其它 |
期刊:Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology 作者:Bhavishya Chowrira; Peter De Bisschop; Victor M. Blanco Carballo; Mircea Dusa 出版日期:2026-02-09 |
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