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Constructing drain surrounded double gate structure in AlGaN/GaN HEMT for boosting breakdown voltage 在AlGaN/GaN HEMT中构建漏极包围双栅结构以提高击穿电压
相关领域
高电子迁移率晶体管
光电子学
击穿电压
材料科学
排水诱导屏障降低
电压
栅极电压
阈值电压
电气工程
晶体管
工程类
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| 其它 |
期刊:RSC Advances 作者:Zehui Peng; H. H. Liu; Hao Yu; Lei Li; Kuan‐Chang Chang 出版日期:2024-01-01 |
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