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An electromigration study of novel 3D Cu stack-via interconnects for advanced high-density fan-out packaging 用于先进高密度扇出封装的新型三维铜堆叠通孔互连的电迁移研究
相关领域
电迁移
材料科学
堆栈(抽象数据类型)
铜互连
互连
电流密度
工程物理
光电子学
复合材料
图层(电子)
计算机科学
工程类
电信
量子力学
物理
程序设计语言
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| 其它 |
期刊:Materials Science in Semiconductor Processing 作者:Kai Shao; Meng-Chun Chiu; Chien-Lung Liang; Min‐Yan Tsai; Yung‐Sheng Lin; et al 出版日期:2025-01-01 |
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