Voltage waveform control of an embedded focus ring electrode to improve edge plasma uniformity and ion incidence angle in capacitively coupled RF discharges

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标题	Voltage waveform control of an embedded focus ring electrode to improve edge plasma uniformity and ion incidence angle in capacitively coupled RF discharges
网址	http://dx.doi.org/10.1063/5.0343601
DOI	10.1063/5.0343601 doi
其它	期刊：Physics of Plasmas 作者：Seoi Choi; Hae June Lee 出版日期：2026-07-01
求助人	Tim 在 2026-11-05 02:10:24 发布自澳大利亚，悬赏 10 积分
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