Modeling of inductively coupled plasma SF6/O2/Ar plasma discharge: Effect of O2 on the plasma kinetic properties

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标题	Modeling of inductively coupled plasma SF6/O2/Ar plasma discharge: Effect of O2 on the plasma kinetic properties
网址	https://doi.org/10.1116/1.4853675
DOI	10.1116/1.4853675 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 作者：Amand Pateau; Ahmed Rhallabi; Marie-Claude Fernandez; Mohamed Boufnichel; Fabrice Roqueta 出版日期：2014
求助人	幽默奎在 2026-03-08 14:32:37 发布自河南，悬赏 10 积分
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