Interplay between Dry Etch and Wet Clean in Patterning La2O3/HfO2 Containing High-k/metal Gate Stacks

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标题	Interplay between Dry Etch and Wet Clean in Patterning La2O3/HfO2 Containing High-k/metal Gate Stacks
网址	https://iopscience.iop.org/article/10.1149/1.3202632/pdf
DOI	10.1149/1.3202632 doi
其它	期刊：作者：I. Vos; D. Hellin; C. Vrancken; J. Geypen; H. Bender; et al 出版日期：2009-09-25
求助人	123 在 2026-09-03 12:14:21 发布自江西，悬赏 10 积分
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