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Growth and characterization of SiGe/Si superlattice for vertically stacked DRAM
网址
https://doi.org/10.1007/s10854-024-14167-y
DOI
10.1007/s10854-024-14167-y doi
其它 期刊：Journal of Materials Science: Materials in Electronics
作者：Hailing Wang; Xiangsheng Wang; Yanpeng Song; Xiaomeng Liu; Ying Zhang; et al
出版日期：2025-01-01
求助人
炙热冰蓝 在 2026-07-15 17:20:53 发布自广东，悬赏 10 积分
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