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标题
High-BFOM GaN p-channel MOSFETs enabled by ALD Ga2O3 gate dielectric
相关领域
材料科学 光电子学 电介质 栅极电介质 磁滞 宽禁带半导体 原子层沉积 功勋 高-κ电介质 MOSFET 逻辑门 随时间变化的栅氧化层击穿 表征(材料科学) 击穿电压 介电强度 栅氧化层 图层(电子) 氮化镓 功率半导体器件 电压 阈值电压 GSM演进的增强数据速率 场效应晶体管 压力(语言学)
网址
DOI
10.1063/5.0337856 doi
其它 期刊:Applied Physics Letters
作者:Shisong Luo; Zonghao Zhang; Chufan Qiu; Tao Li; Cheng Chang; et al
出版日期:2026-07-13
求助人
Even_YE 在 2026-08-11 10:17:37 发布自山西,悬赏 10 积分
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