In vacuo electron-spin-resonance study on amorphous fluorinated carbon films for understanding of surface chemical reactions in plasma etching

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标题	In vacuo electron-spin-resonance study on amorphous fluorinated carbon films for understanding of surface chemical reactions in plasma etching
网址	https://pubs.aip.org/aip/apl/article-pdf/81/10/1773/18569639...
DOI	10.1063/1.1505121 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：Kenji Ishikawa; Shoji Kobayashi; Mitsuru Okigawa; Makoto Sekine; Satoshi Yamasaki; et al 出版日期：2002-08-31
求助人	怪杰在 2026-08-17 11:08:40 发布自安徽，悬赏 10 积分
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