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The regulation mechanism of oxygen additives on diamond growth and residual boron by microwave plasma chemical vapor deposition
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DOI
10.1016/j.diamond.2025.113065 doi
其它 期刊:Diamond and Related Materials
作者:Yan Teng; Kai Yang; Kun Tang; Weikang Zhao; Liangxue Gu; et al
出版日期:2025
求助人
长度2到 在 2025-11-10 13:56:25 发布自美国,悬赏 10 积分
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