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标题
Optimization of Tilted Profile in Ultra-High Aspect Ratio Etch Process for 3D NAND Flash Memory
三维NAND闪存超高宽高比刻蚀工艺倾斜轮廓的优化
相关领域
材料科学 薄脆饼 纵横比(航空) 闪光灯(摄影) 沟槽 与非门 制作 蚀刻(微加工) 闪存 光电子学 失真(音乐) 浅沟隔离 过程(计算) 计算机科学 电子工程 逻辑门 光学 纳米技术 计算机硬件 工程类 物理 CMOS芯片 图层(电子) 病理 操作系统 医学 放大器 替代医学
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DOI
10.1109/edtm50988.2021.9420902 doi
其它 期刊:2022 6th IEEE Electron Devices Technology & Manufacturing Conference (EDTM)
作者:Jinqing He; Zhiliang Xia; Meng Wang; Guangxuan Zhang; Haiqing Dou; et al
出版日期:2021-04-08
求助人
JZAUA 在 2025-08-28 18:03:39 发布自上海,悬赏 10 积分
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  • 8个月前,求助关闭

    JZAUA JZAUA Lv1 求助人 关闭了本次求助。

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  • 8个月前

    JZAUA JZAUA Lv1 求助人 发起了本次求助

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