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 Optimization of Tilted Profile in Ultra-High Aspect Ratio Etch Process for 3D NAND Flash Memory 三维NAND闪存超高宽高比刻蚀工艺倾斜轮廓的优化
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期刊：2022 6th IEEE Electron Devices Technology & Manufacturing Conference (EDTM) 作者：Jinqing He; Zhiliang Xia; Meng Wang; Guangxuan Zhang; Haiqing Dou; et al 出版日期：2021-04-08 |
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