| 标题 |
 Modification of organic underlayers by plasma during dry etching and its effect on the film properties 干法刻蚀过程中等离子体对有机底层的改性及其对薄膜性能的影响
相关领域
材料科学
干法蚀刻
蚀刻（微加工）
基质（水族馆）
晶体管
收缩率
等离子体
等离子体刻蚀
反应离子刻蚀
粘附
各向同性腐蚀
纳米技术
光电子学
金属浇口
化学工程
复合材料
图层（电子）
电气工程
栅氧化层
电压
工程类
物理
海洋学
地质学
量子力学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊： 作者：Soojung C. Leem; Jae Hwan Sim; Youngeun Bae 出版日期：2023-05-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
老的火龙果
Criminology34
xinbadake
GingerF
369ninja
the_coco
OK
DW
cdercder
悦耳的怀寒
MchemG
12Nightz
Kao
初景
Nole
YifanWang
无极微光
罗Eason
牧青
郢儿
皖公网安备34019202002308
