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 Optimization of conditions for excitation of Xe laser plasma in an extreme ultraviolet radiation source for nanolithography in order to increase its efficiency 纳米光刻用极紫外辐射源中Xe激光等离子体激发条件的优化以提高其效率
相关领域
极端紫外线
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期刊：Journal of Optical Technology 作者：P. S. Butorin; S. G. Kalmykov 出版日期：2024-05-01 |
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