Ultrathin Al2O3 interfacial layer for Hf0.5Zr0.5O2-based ferroelectric field-effect transistors

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标题	Ultrathin Al2O3 interfacial layer for Hf0.5Zr0.5O2-based ferroelectric field-effect transistors 相关领域材料科学电介质原子层沉积光电子学铁电性场效应晶体管制作高-κ电介质晶体管图层（电子）铪纳米技术分析化学（期刊）电压锆电气工程冶金病理替代医学化学工程类医学色谱法
网址	https://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6463/ad1543 AI链接 iop.orgdoi.org
DOI	10.1088/1361-6463/ad1543 doi
其它	期刊：Journal of Physics D: Applied Physics 作者：Jehoon Lee; Deokjoon Eom; Heesoo Lee; Woohui Lee; Joohee Oh; et al 出版日期：2023-12-14
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