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 Low-temperature plasma-enhanced atomic layer deposition of Ga2O3 films using N2O plasma for silicon surface passivation |
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期刊：Applied Surface Science 作者：A V Uvarov; A I Baranov; Vyacheslav Pozdeev; A. A. Maksimova; Ekaterina Vyacheslavova; et al 出版日期：2025-11-04 |
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(2025-6-4)
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